光学光刻技术的历史演变

• 作者: 马建军
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光学光刻 缩小步进光刻 步进扫描光刻 浸没式光刻 双重图形光刻
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: IC制造工艺
• 页码范围: 28-32
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 4396字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2008.04.006

摘要

简要回顾了光学光刻技术的发展历程,从IC技术节点微细化要求对光刻技术的挑战方面讨论了光学光刻技术的发展趋势及进入32 nm技术节点的可能性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马建军		2	20	2.0	2.0