恒电压沉积SmS光学薄膜

• 作者: CAO Li-yun MA Xiao-bo WU Jian-peng 贺海燕 黄剑锋
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SmS 光学薄膜 恒电压
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 页码范围: 962-966
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2041字
• 语种: 中文

摘要

以SmCl3·6H2O和Na2S2O3·5H2O为原料,采用电沉积法在ITO玻璃基板制备了SmS光学薄膜.采用XRD、AFM和紫外可见光分光光度计对薄膜进行了表征.研究了沉积电压和热处理温度对于薄膜的物相组成、显微结构和光学性能的影响.结果表明:在n(S):n(Sm)=4:1,溶液pH值为3.0,沉积电压为10 V以及热处理温度为400℃的条件下,可制备出主晶相为SmS且表面比较平整的薄膜.热处理后薄膜的禁带宽度增加.随着沉积电压的增加,SmS逐渐由金属相向半导体相转变,薄膜的禁带宽度相应地变大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄剑锋	陕西科技大学材料科学与工程学院	271	1521	17.0	24.0
2	贺海燕	陕西科技大学材料科学与工程学院	51	374	10.0	16.0
3	WU Jian-peng	陕西科技大学材料科学与工程学院	2	41	1.0	2.0
4	CAO Li-yun	陕西科技大学材料科学与工程学院	2	11	1.0	2.0
5	MA Xiao-bo	陕西科技大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0