氧化钒薄膜在玻璃基片上的生长研究

• 作者: 吴志明 王涛 蒋亚东 魏雄邦
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钒薄膜 玻璃 厚度 直流磁控溅射
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 364-368
• 页数: 5页
• 分类号: TN213
• 字数: 3264字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.02.033

摘要

采用直流反应磁控溅射法,在平整光滑的普通玻璃基片表面沉积了厚度分别为80nm、440nm和1um的氧化钒薄膜.采用原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜的表面形貌、结构和结晶化的分析表明,厚度影响着薄膜的颗粒大小和结晶状态,随着薄膜厚度的增加,薄膜的颗粒增大,晶化增强;薄膜具有明显的垂直于衬底表面的"柱"状择优生长特征.对薄膜的方阻和方阻随温度的变化进行了相关分析,证实了厚度对氧化钒薄膜的电学性能存在明显的影响,随着薄膜厚度的增加,薄膜的方阻减小,方阻温度系数升高,薄膜的方阻随温度变化的回线滞宽逐渐增大,薄膜的金属一半导体相变逐渐趋于明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋亚东		17	98	5.0	9.0
2	吴志明		4	46	3.0	4.0
3	魏雄邦		1	8	1.0	1.0
4	王涛		2	8	1.0	2.0