退火温度对NiZn铁氧体薄膜性能的影响

• 作者: 余忠 兰中文 孙科 李可为 赵晓宁
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 NiZn铁氧体薄膜 退火温度
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 86-88
• 页数: 3页
• 分类号: O484.41

摘要

采用射频磁控溅射法在Si（100）基片上制备了NiZn铁氧体薄膜，研究了退火温度对薄膜性能的影响。采用XRD分析仪分析了薄膜的相结构，原予力显微镜分析了薄膜的表面形貌，振动样品磁强计测量了薄膜的磁性能，结果表明，随着退火温度的升高，薄膜的结晶状态越好，晶粒尺寸越大，饱和磁感应强度越高，面内矫顽力越小。