膜厚对GdTbFeCo非晶薄膜磁光性能的影响

• 作者: 冯小源 朱宏生 朱洪杰 林玉 郭继花 黄致新
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 磁光记录 克尔角 矫顽力
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 记录与介质
• 页码范围: 42-44
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4
• 字数: 1271字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2009.03.008

摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了GdTbFeCo非晶薄膜,通过调节溅射时间制备出了不同厚度的薄膜,并研究了膜厚对薄膜磁光性能的影响.磁光特性测试仪的测试结果表明:溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,可以使GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力和克尔角达到较大值,分别高达4575.476Oe和0.393°.能满足磁光记录材料矫顽力大,磁光克尔角大的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄致新	华中师范大学物理科学与技术学院	104	350	10.0	14.0
2	冯小源	华中师范大学物理科学与技术学院	3	12	1.0	3.0
3	郭继花	华中师范大学物理科学与技术学院	7	15	2.0	3.0
4	朱宏生	华中师范大学物理科学与技术学院	2	1	1.0	1.0
5	朱洪杰	华中师范大学物理科学与技术学院	1	0	0.0	0.0
6	林玉	华中师范大学物理科学与技术学院	1	0	0.0	0.0