封闭磁场非平衡磁控溅射偏压对CrN镀层摩擦学性能影响

• 作者: 于磊 孙海林 徐雪波 鲍明东
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: CrN镀层 非平衡磁控溅射 偏压 耐磨性
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 565-569
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 3714字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2009.05.22

摘要

采用Teer UDP 650型闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备沉积CrN镀层,通过调变偏压获得不同结构和性能的CrN镀层.试验用划痕法测定了镀层结合强度、用球-盘方法测定了镀层摩擦系数和比磨损率、用压入法评价镀层韧性,硬度测试在维氏硬度计上进行.实验结果表明,随着溅射偏压的升高,离子速流提高,偏压过低或过高均使沉积速率下降,-50V～-70V偏压时沉积速率基本保持稳定.CrN镀层的硬度随偏压的升高而升高,但伴随着韧性的下降.高偏压下沉积的镀层摩擦系数呈下降趋势,偏压在-40V～-70V间制备的镀层对磨WC球时几乎不磨损,但当偏压从-70V提高到-80V时,磨损明显加剧.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	鲍明东	宁波工程学院材料科学与工程研究所	29	102	6.0	8.0
2	徐雪波	宁波工程学院材料科学与工程研究所	14	65	4.0	7.0
3	于磊	中国矿业大学材料科学与工程学院	6	83	4.0	6.0