射频磁控溅射SiOx薄膜的制备与阻隔性能研究

• 作者: 刘壮 林晶 董峰 高德
• 来源期刊: 包装工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 SiOx薄膜 阻隔性能 透氧 透湿
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 技术专论
• 页码范围: 21-23
• 页数: 3页
• 分类号: TB487|TB43
• 语种: 中文

摘要

利用磁控溅射技术,以SiO2为靶材,Ar为射频源气体,在PET基材上制备SiOx薄膜.研究了不同放电功率、氩气流量、镀膜时间等参数对SiOx薄膜阻隔性能的影响.结果表明:在一定范围内,薄膜的阻隔性能随放电功率的增大而增大,而后逐渐减小;氩气流量对薄膜的阻隔性能也有一定影响;镀膜时间在10min时SiOx薄膜的阻隔性能最好.扫描电镜SEM测试表明,在氩气流量为100cm3/min,镀膜时间10min,1500W放电功率下制备的SiOx薄膜阻隔性能较好、表面较均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林晶		40	160	7.0	11.0
2	高德		42	715	15.0	26.0
3	刘壮		36	267	9.0	16.0
4	董峰		2	2	1.0	1.0