银含量对射频磁控溅射法制备Ag-TiO_2薄膜能隙和相结构的影响

• 作者: 孟凡明 鲁飞
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 银 二氧化钛薄膜 相结构 能隙 射频磁控溅射
• 年，卷（期）: 2009,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文,英文
• 页码范围: 2130-2134
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.2009.12.030

摘要

采取射频磁控溅射法在硅和石英衬底上淀积Ag-TiO_2纳米薄膜,利用X射线衍射仪和紫外可见分光计分析薄膜的相结构和光学性能,研究银含量对Ag-TiO_2薄膜相结构和能隙的影响.结果表明:银含量影响Ag-TiO_2薄膜的相结构,薄膜中的银为金属Ag(Ag~0),随着银含量(0~40%,体积分数)的增加,薄膜的能隙先减后增,但是仍然小于纯TiO_2薄膜的能隙,银的添加明显地改善了TiO_2薄膜对可见光的吸收.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孟凡明	安徽大学物理与材料科学学院	46	205	9.0	12.0
10	鲁飞	安徽大学物理与材料科学学院	8	78	3.0	8.0