沉积时间对脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜性能的影响

• 作者: 曹培江 曾玉祥 贾芳
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 ZNO薄膜 沉积时间
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 页码范围: 67-69
• 页数: 3页
• 分类号: O482.31

摘要

采用脉冲激光沉积技术（PLD）在氧气气氛中以高纯Zn为（99．999％）靶材，在单晶硅和石英衬底表面成功生长了ZnO薄膜。通过X射线衍射仪、表明轮廓仪、荧光光谱仪、紫外可见分光光度计对合成薄膜材料的晶体结构、厚度、光学性质等进行了研究，分析了ZnO薄膜的沉积时间对其性能的影响。结果表明，采用PLD法在室温下可以制备出（002）结晶取向和透过率高于75％的ZnO薄膜，但室温下沉积的ZnO薄膜的发射性能较差，沉积时间的延长不能改善薄膜的发光性能。