电沉积铜/镍纳米多层膜及巨磁阻效应

• 作者: 于倩倩 朱福良 谢建平 黄达
• 来源期刊: 新技术新工艺
• 学科: 工学
• 关键词: Cu/Ni多层膜 电沉积 巨磁阻效应
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 热加工工艺技术与材料研究
• 页码范围: 88-90
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 2199字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-5311.2009.01.033

摘要

以(110)高择优的Cu片为基体,在硫酸盐溶液中采用常规脉冲法制备了不同调制波长的Cu/Ni纳米多层膜.利用扫描电镜(SEM)分别对多层膜的断面及表面进行表征.结果表明,Cu/Ni纳米多层膜子层厚度均匀连续,且表面与调制波长有紧密联系.利用传统的四探针法对多层膜巨磁阻(GMR)进行测试.结果表明,在一定调制波长范围内GMR值随调制波长增大而减小.分别对铜和镍子层厚度及周期数进行优化,制备出GMR值高达34.4%的Cu/Ni多层膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱福良	兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点试验室	40	196	8.0	11.0
2	于倩倩	兰州理工大学材料科学与工程学院	5	29	4.0	5.0
3	黄达	兰州理工大学材料科学与工程学院	5	29	4.0	5.0
4	谢建平	兰州理工大学材料科学与工程学院	5	29	4.0	5.0