沉积时间对脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜性能的影响

• 作者: 曹培江 曾玉祥 贾芳
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 ZnO薄膜 沉积时间
• 年，卷（期）: 2009,（z2）
• 所属期刊栏目: 纳米材料
• 页码范围: 67-69
• 分类号: O482.31
• 字数: 2886字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.z2.022

摘要

采用脉冲激光沉积技术(PLD)在氧气气氛中以高纯Zn为(99.999%)靶材,在单晶硅和石英衬底表面成功生长了ZnO薄膜.通过X射线衍射仪、表明轮廓仪、荧光光谱仪、紫外可见分光光度计对合成薄膜材料的晶体结构、厚度、光学性质等进行了研究,分析了ZnO薄膜的沉积时间对其性能的影响.结果表明,采用PLD法在室温下可以制备出(002)结晶取向和透过率高于75%的ZnO薄膜,但室温下沉积的ZnO薄膜的发射性能较差,沉积时间的延长不能改善薄膜的发光性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹培江	深圳大学材料学院	12	24	3.0	4.0
5	贾芳	深圳大学材料学院	9	34	3.0	5.0
9	曾玉祥	深圳大学材料学院	3	12	2.0	3.0