HWCVD在玻璃衬底上沉积硅薄膜的研究

• 作者: 傅杰财 刘滨 张俊丽 谢二庆 郭小松
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 工学
• 关键词: 热丝化学气相沉积 硅薄膜 硅烷浓度 衬底与热丝距离 衬底温度
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 288-290
• 页数: 3页
• 分类号: TB43

摘要

采用热丝化学气相沉积法在玻璃衬底上沉积硅薄膜，采用扫描电子显微镜、拉曼光谱分析表征样品的形貌和结晶性，较为系统地研究了硅烷浓度、衬底到热丝的距离对硅薄膜生长过程及各种性质的影响，结果表明，较高的衬底温度及较低的硅烷浓度有利于薄膜的结晶。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢二庆	兰州大学物理科学与技术学院	84	371	11.0	14.0
2	张俊丽	兰州大学物理科学与技术学院	2	1	1.0	1.0
3	傅杰财	兰州大学物理科学与技术学院	2	1	1.0	1.0
4	郭小松	兰州大学物理科学与技术学院	2	1	1.0	1.0
5	刘滨	兰州大学物理科学与技术学院	2	1	1.0	1.0