DC磁控溅射制备的TiNx薄膜组分及性能分析

• 作者: 朱秀榕 李海翼 胡敏 赖珍荃
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮化钛薄膜 磁控溅射 反射率 电阻率
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 245-247
• 分类号: O469
• 字数: 2248字
• 语种: 中文

摘要

利用DC磁控溅射法在p-Si(111)衬底上制备了TiNx薄膜.利用X射线能谱仪(EDX)、X射线衍射(XRD)、紫外/可见分光光度计、四探针电阻率测试仪等分析了薄膜的组分、结构和光电特性.结果表明,薄膜中N /Ti原子比接近于1;衬底温度对薄膜的择优取向影响显著,240℃附近是TiNx薄膜结晶择优取向由(111)向(200)转变的临界点;薄膜在近红外波段平均反射率随衬底温度的升高,先增大后减小;薄膜的电阻率随着衬底温度的升高而显著降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赖珍荃	南昌大学物理系	20	139	7.0	10.0
2	胡敏	南昌大学物理系	49	390	8.0	18.0
3	李海翼	南昌大学物理系	2	8	2.0	2.0
4	朱秀榕	南昌大学物理系	4	26	3.0	4.0