掺钼氧化锌透明导电薄膜光学性质研究

• 作者: 吴臣国 杨锡良 沈杰 王三坡 章壮健
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 透明导电薄膜 掺钼氧化锌 磁控溅射 光学性质 有效质量
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 171-175
• 页数: 5页
• 分类号: O484|TN304
• 字数: 3549字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.02.14

摘要

采用直流磁控反应溅射制备了掺钼氧化锌透明导电薄膜.研究了掺钼氧化锌薄膜的结构、表面形貌及其光学和电学性能.原子力显微镜扫描显示薄膜表面较为平整致密.制备出的掺钼氧化锌薄膜最低电阻率为9.4×10~(-4)Ω·cm,相应载流子迁移率为27.3cm~2V~(-1)s~(-1),载流子浓度为3.1×10~(20)cm~(-3).在可见光区域的平均透射率大于85%,折射率(550nm)为1.853,消光系数为7.0×10~(-3).通过调节氧分压可以调节薄膜载流子浓度,禁带宽度随载流子浓度的增加由3.37增大到3.8eV,薄膜的载流子有效质量m*为0.33倍的电子质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈杰	复旦大学材料科学系	79	645	12.0	22.0
2	杨锡良	复旦大学材料科学系	22	512	13.0	22.0
3	章壮健	复旦大学材料科学系	41	667	16.0	24.0
4	吴臣国	复旦大学材料科学系	3	34	2.0	3.0
5	王三坡	复旦大学材料科学系	3	40	3.0	3.0