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EUV掩膜版的等离子刻蚀法
EUV掩膜版的等离子刻蚀法
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摘要：
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聚合物薄膜的大气压微等离子体射流无掩膜刻蚀工艺
微等离子体
聚合物薄膜
工艺参数
刻蚀工艺
（100）/（111）面金刚石膜抗氧等离子刻蚀能力
金刚石膜
(100)晶面
(111)晶面
氧等离子体
刻蚀
等离子体刻蚀金刚石膜的研究方法及现状
等离子体刻蚀
金刚石膜
进展
等离子体刻蚀中工艺参数对刻蚀速率影响的研究
感应耦合等离子体
干法刻蚀
硅
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期刊影响力
电子工业专用设备
主办单位：
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1004-4507
CN：
62-1077/TN
开本：
大16开
出版地：
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号：
创刊时间：
1971
语种：
chi
出版文献量（篇）
3731
总下载数（次）
31
总被引数（次）
10002
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