原位退火对磁控溅射制备的ZnS薄膜微结构和发光性能的影响

• 作者: 左少华 李亚军 江锦春 石刚 胡古今 褚君浩
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnS薄膜 原位退火 光致发光 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 页码范围: 507-510
• 分类号: O484.4
• 字数: 2091字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了系列ZnS薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和荧光分光光度计研究了Ar气氛中300～500℃原位退火对薄膜微结构和发光性能的影响.结果表明,退火温度对ZnS薄膜的结晶性能和晶粒大小的影响不大,但会显著影响其发光特性.低温退火处理的薄膜的PL谱具有多个发光峰,而500℃退火的薄膜则表现为单一发光峰结构.PL谱的这种变化是由于退火引起ZnS薄膜中的缺陷种类和浓度变化所致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李亚军	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	12	24	3.0	4.0
2	胡古今	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	11	25	3.0	4.0
6	石刚	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	20	230	7.0	15.0
7	左少华		3	7	2.0	2.0
8	江锦春		5	8	2.0	2.0