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氧化锌锡薄膜晶体管的研究
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摘要：
在ITO玻璃基底上用射频磁控溅射技术生长氧化锌锡(ZnSnO)沟道有源层、用PECVD生长SiO2薄膜作为薄膜晶体管的栅绝缘层研制了薄膜晶体管(TFT),器件的场效应迁移率最高达到μn=9.1 cm2/(V·s),阈值电压-2V,电流开关比为104.
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研究主题发展历程
节点文献
氧化锌锡
薄膜晶体管
场效应迁移率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位：
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期：
半月刊
ISSN：
1000-3290
CN：
11-1958/O4
开本：
大16开
出版地：
北京603信箱
邮发代号：
2-425
创刊时间：
1933
语种：
chi
出版文献量（篇）
23474
总下载数（次）
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