电子束蒸发制备碳化硼微球涂层的工艺研究

• 作者: 伍登学 卢铁城 廖志君 王自磊 范强 陶勇
• 来源期刊: 四川大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子束蒸发 涂层 沉积时间
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 395-399
• 分类号: O484.5
• 字数: 3300字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2011.02.027

摘要

自行设计一套筛网反弹盘三维沉积装置,用于电子束蒸发制备碳化硼微球涂层.采用电子束蒸发法并结合此装置在直径为1 mm的玻璃小球表面沉积了碳化硼涂层.研究了筛网振动频率、电子束制备工艺对沉积速率、涂层厚度以及涂层表面粗糙度的影响.采用X射线照相技术测试涂层的厚度;XPS测试涂层表面成分;AFM表征涂层的表面形貌和均方根粗糙度.结果表明:涂层主要成分为B4C,表面较为光滑、均匀;当筛网振动频率为0.25 Hz,且电子束蒸发工艺参数定为:真空度P小于3×10-3Pa,高压U等于6 kV,束流Ⅰ在100 mA～120mA之间时,所制涂层表面形貌最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	伍登学	四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室	21	74	5.0	8.0
2	陶勇	四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室	33	192	7.0	13.0
3	卢铁城	四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室	71	351	9.0	14.0
4	廖志君	四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室	17	37	4.0	5.0
5	范强	四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室	10	13	2.0	3.0
6	王自磊	四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室	3	1	1.0	1.0