多组分掺杂ZnO陶瓷薄膜的射频磁控溅射法制备及表征

• 作者: 孙真真 徐瑞丽 花银群 陈瑞芳
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 无机非金属材料 ZnO陶瓷薄膜 射频磁控溅射 溅射功率 退火温度
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 页码范围: 444-447
• 分类号: TB43|TN305.92
• 字数: 2708字
• 语种: 中文

摘要

采用传统陶瓷烧结工艺,制备了直径为50mm,厚度为3 mm的Bi2O3、Sb2O3、CO2O3、Cr2O3、MnO2掺杂的ZnO陶瓷靶,采用所制备的ZnO陶瓷靶和射频磁控溅射技术在Si(111)衬底上成功制备出了ZnO陶瓷薄膜,并研究了溅射功率和退火温度对ZnO陶瓷薄膜的微观结构和表面形貌的影响.结果表明:随着溅射功率的增大,ZnO陶瓷薄膜的沉积速率增大;颗粒尺寸先减小后增大.随着退火温度的升高,ZnO陶瓷薄膜的c轴取向增强;晶粒尺寸增大.溅射功率为350W、退火温度为850℃,制备出的陶瓷薄膜的相组成是ZnO主晶相、富Bi2O3相、Sb2O3相以及Zn2.33Sb0.67O4尖晶石相,得到了具有压教电阻特性的组织结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	花银群	江苏大学机械工程学院	66	512	13.0	20.0
2	孙真真	江苏大学机械工程学院	2	11	2.0	2.0
3	陈瑞芳	江苏大学机械工程学院	43	413	12.0	19.0
4	徐瑞丽	江苏大学机械工程学院	2	7	1.0	2.0