多层模型计算椭偏法测量的SiO2/Si超薄膜厚度

• 作者: 孙钦蕾 王锋 范江玮 韩小刚
• 来源期刊: 测试技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SiO2/Si超薄膜 多层模型 椭偏法 X射线全反射 热氧比法
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 测试技术与理论研究
• 页码范围: 388-392
• 分类号: O751
• 字数: 3922字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7449.2012.05.004

摘要

采用不同的光学模型对厚度为6nm,密度为2.2 g/cm3的理想SiO2薄膜理论曲线进行了拟合,得到了薄膜厚度的计算结果随所采取的薄膜密度变化的规律:选用更大的薄膜密度值进行拟合计算会得到更小的厚度结果,其趋势近似线性.参考GIXRR方法测量得到的薄膜物理结构的结果,给出了优化的拟合计算模型(薄膜密度为2.4 g/cm3、表面粗糙度为0.4nm、界面粗糙度为0.3 nm),对于热氧化法制备的厚度小于10 nm的SiO2超薄膜,使用此模型进行拟合计算,可以得到比常规模型更为准确的厚度结果.采用优化的模型拟合了期望厚度为2,4,6,8,10 nm的SiO2超薄膜的SE实验曲线,得到的厚度结果分别为2.61,4.07,6.02,7.41,9.43 nm,与传统模型计算结果相比,分别降低了13.8％,10.3％,8.1％,7.3％和6.6％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范江玮	石家庄军械工程学院电气工程系	1	2	1.0	1.0
2	王锋	石家庄军械工程学院电气工程系	1	2	1.0	1.0
3	孙钦蕾	石家庄军械工程学院电气工程系	1	2	1.0	1.0
4	韩小刚	石家庄军械工程学院电气工程系	1	2	1.0	1.0