射频磁控溅射制备CuAlO2薄膜及性能表征

• 作者: 孙兆奇 宋学萍 朱煜东 李俊磊 汪娴
• 来源期刊: 安徽大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: CuAlO2薄膜 磁控溅射 浸润性
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 特稿
• 页码范围: 13-18
• 分类号: O484
• 字数: 1992字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2162.2012.03.003

摘要

利用Al(OH)3和Cu2O高温固相反应烧结制备的靶材,采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备非晶CuAlO2薄膜.薄膜的表面均匀,颗粒大小约为50 nm,可见光范围内透射率为60％,平均折射率达2.0,直接带隙为3.86 eV.随着在紫外光源下曝光时间的增加,薄膜的接触角从96.3°减小到87.5°,薄膜仍呈现出良好的疏水性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋学萍	安徽大学物理与材料科学学院安徽省信息材料与器件重点实验室	63	367	10.0	14.0
2	孙兆奇	安徽大学物理与材料科学学院安徽省信息材料与器件重点实验室	91	563	11.0	16.0
3	汪娴	安徽大学物理与材料科学学院安徽省信息材料与器件重点实验室	1	6	1.0	1.0
4	李俊磊	安徽大学物理与材料科学学院安徽省信息材料与器件重点实验室	1	6	1.0	1.0
5	朱煜东	安徽大学物理与材料科学学院安徽省信息材料与器件重点实验室	1	6	1.0	1.0