氮气含量对反应射频磁控溅射制备CrN_x薄膜组织与性能的影响

• 作者: 李晖 王松 许洪斌 陈勇
• 来源期刊: 重庆理工大学学报：自然科学
• 学科: 工学
• 关键词: 反应射频磁控溅射 CrNx薄膜 氮气含量 纳米硬度 弹性模量
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 所属期刊栏目: 机械·材料
• 页码范围: 21-25
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.453
• 字数: 2053字
• 语种: 中文

摘要

采用反应射频磁控溅射法在40Cr基体上制备CrNx薄膜,研究了不同氮气含量对薄膜组织形貌、粗糙度、沉积厚度以及纳米硬度和弹性模量的影响。结果表明：采用反应射频磁控溅射法在不同氮气含量下,可制备得到厚度均匀、表面质量好的CrNx薄膜;随着氮气含量的增加,薄膜的表面光洁度先逐渐增大,氮气含量为20%时光洁度值最大为0.024μm,之后光洁度缓慢下降;薄膜的沉积厚度也随着氮气含量的增加而先增大后减小,氮气含量分别为20%和50%,薄膜厚度出现最大值8.7μm和最小值2.1μm;随着氮气含量的变化,当含量为20%时纳米硬度最大值为30.9 GPa,弹性模量为422.6 GPa。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李晖	重庆理工大学材料科学与工程学院	21	52	5.0	6.0
2	许洪斌	重庆理工大学材料科学与工程学院	48	236	9.0	12.0
3	陈勇	重庆理工大学材料科学与工程学院	9	20	3.0	4.0
4	王松	重庆理工大学材料科学与工程学院	4	18	3.0	4.0