沉积参数对射频磁控溅射制备的碲锌镉薄膜的影响

• 作者: 张传军 曹鸿 王善力 褚君浩 邬云骅
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 碲锌镉 薄膜 射频磁控溅射 带隙
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 页码范围: 97-101
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 605字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1010.2013.00097

摘要

采用Cd096Zn0.04Te靶,利用射频磁控溅射制备碲锌镉薄膜,通过改变基片温度、溅射功率和工作气压,制得不同的碲锌镉薄膜.将制备的碲锌镉薄膜放置在高纯空气气氛中,在473 K温度下退火.利用台阶仪、分光光度计、XRD和SEM测试设备表征,结果表明,通过退火和改变沉积参数,可以制备出禁带宽度在1.45～2.02eV之间调节的碲锌镉薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王善力		11	37	3.0	5.0
2	褚君浩	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	103	650	13.0	22.0
6	曹鸿	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	6	14	3.0	3.0
10	邬云骅		4	6	2.0	2.0