不同退火条件对磁控溅射CdS薄膜性能的影响

• 作者: 张传军 曹鸿 王善力 褚君浩 赵守仁 邬云骅
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 工学
• 关键词: CdS薄膜 磁控溅射 热退火 再结晶 带尾态
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 页码范围: 298-303
• 页数: 6页
• 分类号: TN2
• 字数: 4067字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1010.2013.00298

摘要

采用磁控溅射法,在衬底温度300℃制备CdS薄膜,并选取370℃、380℃、390℃三个温度退火,获得在干燥空气和CdCl2源+干燥空气两种气氛下退火的CdS薄膜.通过研究热处理前后CdS薄膜的形貌、结构和光学性能表明,CdS薄膜在干燥空气中退火,晶粒度、表面粗糙度和可见光透过率变化不明显,光学带隙随退火温度的升高而增大；在CdCl2源+干燥空气中退火,随退火温度的升高发生明显的再结晶和晶粒长大,表面粗糙度增大,可见光透过率和光学带隙随退火温度的升高而减小.分析得出:上述性能的改变是由于不同的退火条件对CdS薄膜的再结晶温度和带尾态掺杂浓度改变的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王善力		11	37	3.0	5.0
2	曹鸿	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	6	14	3.0	3.0
6	张传军	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	5	12	3.0	3.0
10	邬云骅		4	6	2.0	2.0
11	赵守仁		1	4	1.0	1.0