双极脉冲磁控溅射制备Mo薄膜背接触电极

• 作者: 刘贵山 方仁德 沈晓月 胡志强 郝洪顺 黄贝
• 来源期刊: 大连工业大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 双极脉冲磁控溅射 铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳电池 Mo薄膜
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 纺织与材料工程
• 页码范围: 457-460
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

采用双极脉冲磁控溅射技术在钠钙玻璃衬底上制备了CIGS薄膜太阳电池的Mo薄膜背接触电极,通过SEM对薄膜厚度的测试,研究了不同沉积时间和衬底温度下Mo薄膜溅射速率的变化规律;通过XRD、SEM、紫外-可见分光光度计和四探针电阻测试仪对薄膜的晶体结构、表面形貌以及光电学性能进行表征,着重探讨了沉积时间和衬底温度对Mo薄膜生长、结构及性能的影响.研究结果表明,薄膜的沉积速率随沉积时间和衬底温度而变化,沉积30 min后,沉积速率趋于稳定;衬底温度100℃时,薄膜沿(110)晶面定向生长被打乱,表现为沿(211)晶面生长更为显著,SEM分析发现此时晶粒为略带间隙的梭形结构,且晶体呈柱状生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡志强		67	242	8.0	11.0
2	郝洪顺		32	38	4.0	5.0
3	刘贵山		48	121	6.0	9.0
4	沈晓月		3	0	0.0	0.0
5	方仁德		2	0	0.0	0.0
6	黄贝		4	1	1.0	1.0