用于光刻机照明均匀化的微柱面镜阵列设计

• 作者: 曾爱军 朱菁 杨宝喜 肖艳芬 胡中华 黄惠杰
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 几何光学 微柱面镜阵列 光学设计 照明均匀性
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造
• 页码范围: 243-248
• 页数: 6页
• 分类号: O435
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201340.0216001

摘要

均匀照明是投影光刻机中实现光刻线条高度均一性的重要条件.采用微透镜阵列作为照明匀光器件,能够在实现矩形照明光斑的同时获得极高的远场分布均匀性.基于微透镜阵列现有的加工工艺,设计出二维方向分开的柱面微透镜阵列,并通过优化设计,克服了微透镜之间的接缝在远场光场处产生的中心亮线.仿真分析表明,所设计的微透镜阵列的远场分布不均匀性达到0.85％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄惠杰	中国科学院上海光学精密机械研究所	69	544	13.0	23.0
2	曾爱军	中国科学院上海光学精密机械研究所	33	188	8.0	13.0
3	杨宝喜	中国科学院上海光学精密机械研究所	17	1	1.0	1.0
4	朱菁	中国科学院上海光学精密机械研究所	12	4	1.0	2.0
5	胡中华	中国科学院上海光学精密机械研究所	5	0	0.0	0.0
6	肖艳芬	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	0	0.0	0.0