掺钼氧化锌薄膜的发光特性

• 作者: 孙兆奇 徐汉淑 朱煜东 李洪霞 石市委
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 钼掺杂 氧化锌 微结构 光致发光 退火
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 245-248
• 分类号: O472.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2013.03.10

摘要

使用磁控溅射法在石英基底上制备钼掺杂氧化锌薄膜.扫描电镜结果表明薄膜由晶粒大小为40～ 80 nm范围内的颗粒组成,薄膜具有六方纤锌矿型结构且沿c轴择优取向生长.在可见光范围(400～760 nm)内所有薄膜的平均光透射率超过90％.退火薄膜的光致发光(PL)光谱表明,退火处理对发光峰的位置有很大影响,随着退火温度的增加,发光峰位置从380 nm红移至400nm或从470 nm红移至525 nm.此外,钼掺杂对退火薄膜PL光谱的强度影响很大.我们认为,薄膜中缺陷浓度的变化是导致发光峰红移的主要原因,讨论了PL谱中不同的可见光的发光机制.