ITO薄膜的制备、光刻及性能测试实验设计

• 作者: 刘文龙 张磊 段宇星
• 来源期刊: 实验科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: ITO薄膜 刻蚀 方阻 透过率
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 实验设计
• 页码范围: 237-239
• 页数: 3页
• 分类号: TN15
• 字数: 2098字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-4550.2013.06.074

摘要

文中就电子科技大学显示器件技术课程ITO薄膜的制备、光刻及性能测试实验进行了深入分析.该实验主要涉及ITO薄膜的制备、图案的刻蚀、ITO薄膜的方阻测试及透过率测试.通过该实验让学生掌握ITO薄膜的制备、薄膜图案的形成及薄膜的性能测试等基本工艺技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	段宇星	电子科技大学光电信息学院	2	10	2.0	2.0
2	张磊	电子科技大学光电信息学院	37	231	9.0	13.0
3	刘文龙	电子科技大学光电信息学院	3	4	1.0	2.0