金属诱导低温制备多晶硅薄膜工艺新进展

• 作者: 宋化雨 李亚莉 杨奕凡 董敬敬 邢杰 郝会颖
• 来源期刊: 光谱实验室
• 学科: 物理学
• 关键词: 金属诱导晶化 非晶硅 多晶硅薄膜
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 页码范围: 2246-2250
• 页数: 5页
• 分类号: O433.5+9|O743+4
• 字数: 3562字
• 语种: 中文

摘要

多晶硅薄膜由于兼具稳定性、高光敏性、便于大面积沉积等优势成为目前光伏领域的研究热点.本文综述了近几年金属诱导非晶硅薄膜晶化的新工艺,介绍了各种工艺条件对多晶硅薄膜材料的结构、金属含量的调控规律.最后展望了未来的发展趋势.