Ge20Sb15Se65薄膜的热致光学特性变化研究*

• 作者: 宗双飞 徐铁峰 李军 林常规 沈祥* 王国祥 聂秋华 陈昱 陈芬
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: Ge20Sb15Se65薄膜 热处理 光学带隙 折射率
• 年，卷（期）: 2013,（9）
• 页码范围: 357-362
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.62.096801

摘要

采用磁控溅射法制备了Ge20Sb15Se65薄膜,研究热处理温度(150-400?C)对薄膜光学特性的影响.通过分光光度计、X射线衍射仪、显微拉曼光谱仪对热处理前后薄膜样品的光学特性和微观结构进行了表征,并根据Swanepoel方法以及Tauc公式分别计算了薄膜折射率色散曲线和光学带隙等参数.结果表明当退火温度(Ta)小于薄膜的玻璃转化温度(Tg)时,薄膜的光学带隙(Eoptg )随着退火温度的增加由1.845 eV上升至1.932 eV,而折射率由2.61降至2.54;当退火温度大于薄膜的玻璃转化温度时,薄膜的光学带隙随退火温度的增加由1.932 eV降至1.822 eV,折射率则由2.54增至2.71.最后利用Mott和Davis提出的非晶材料由非晶到晶态的结构转变模型对结果进行了解释,并通过薄膜XRD和Raman光谱进一步验证了结构变化是薄膜热致变化的重要原因.