靶材热处理温度对磁控溅射Mo薄膜组织和性能的影响

• 作者: 孙院军 安耿 张国君 马杰
• 来源期刊: 中国钼业
• 学科: 工学
• 关键词: 钼靶材 Mo薄膜 择优取向 电性能
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 金属加工
• 页码范围: 36-40
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.4+12
• 字数: 3366字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13384/j.cnki.cmi.1006-2602.2014.06.009

摘要

采用磁控溅射设备和经过不同温度热处理的Mo靶材,以相同的溅射工艺参数,在Si基片上制备了Mo金属薄膜,研究了靶材的热处理温度对Mo薄膜组织和性能的影响.研究结果发现,所制备Mo薄膜均呈现(110)晶面择优取向,而靶材热处理温度的升高能够提高(110)晶面的择优取向程度.所有薄膜均为T型低温抑制生长.比较结果表明:经1 200℃热处理的Mo靶材溅射率最高(18.5 nm/min),且其溅射膜具有较小的方阻值和较好的厚度均匀性,综合性能最优.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙院军		25	267	9.0	15.0
2	张国君		35	220	8.0	14.0
4	安耿		37	186	7.0	11.0
7	马杰		3	10	2.0	3.0