基体偏压对磁控溅射 TiAlN 薄膜性能的影响

• 作者: 刘丽 孙智慧 林晶 肖玮
• 来源期刊: 哈尔滨商业大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN薄膜 中频 磁控溅射 脉冲偏压 性能
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 能源与机械工程
• 页码范围: 308-311
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3604字
• 语种: 中文

摘要

采用中频孪生磁控溅射技术，以Q235碳钢为基体，通过调整薄膜沉积过程中基体负偏压大小，制备TiAlN薄膜．采用原子力显微镜（ AFM）观察薄膜表面形貌，采用动电位极化试验研究薄膜的电化学腐蚀行为，用台阶仪和显微硬度计测量薄膜的厚度和硬度，用X-射线光电子能谱仪测试薄膜的组织成分．结果表明，TiAlN薄膜表面平整，粗糙度低．随偏压的增大，膜厚、显微硬度和耐腐蚀性都呈现也先增大，后减小的趋势．当负偏压增大到60 V时，薄膜的腐蚀电位和腐蚀电流密度分别为-256．2 mV和7．81×10-6 A/cm2，抗腐蚀能力最强．X射线光电子能谱（ XPS）检测结果表明，随负偏压幅的增大，Al/Ti原子比降低．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林晶	哈尔滨商业大学轻工学院	40	160	7.0	11.0
2	孙智慧	哈尔滨商业大学轻工学院	87	596	14.0	21.0
3	刘丽	哈尔滨商业大学轻工学院	11	30	3.0	5.0
4	肖玮	哈尔滨商业大学轻工学院	13	15	3.0	3.0