磁控溅射和热还原退火法制备VO2薄膜及其性能

• 作者: 张元元 李合琴 李辉 胡仁杰
• 来源期刊: 合肥工业大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化钒薄膜 磁控溅射 热还原退火法 电阻温度系数 相变
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 34-37
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 1345字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-5060.2014.01.008

摘要

文章采用直流反应磁控溅射和热还原退火法制备VO2薄膜，研究了退火温度与时间对该薄膜相变和性能的影响。采用原子力显微镜（AFM ）、X射线衍射仪（XRD）、红外光谱仪、LCR精密电桥对薄膜的形貌、结构组分、光学性能和变温电阻进行了测试与分析。实验结果表明，溅射法制备的VO2薄膜主要为 V2 O5相，经过500℃/120 min氢气热还原退火后，薄膜逐步转变为VO2相，电阻突变可达到2个数量级。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李辉	合肥工业大学材料科学与工程学院	51	434	11.0	19.0
2	李合琴	合肥工业大学材料科学与工程学院	71	273	8.0	12.0
3	张元元	合肥工业大学材料科学与工程学院	6	22	4.0	4.0
4	胡仁杰	合肥工业大学材料科学与工程学院	3	16	3.0	3.0