射频功率和沉积气压对非晶硅薄膜材料性能的影响

• 作者: 周炳卿 张丽丽 张娜 张林睿 李海泉
• 来源期刊: 内蒙古师范大学学报（自然科学汉文版）
• 学科: 工学
• 关键词: 氢化非晶硅薄膜 射频功率 沉积气压 光电特性
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 物理与工程技术
• 页码范围: 347-351
• 页数: 5页
• 分类号: TK304
• 字数: 2391字
• 语种: 中文

摘要

采用等离子体增强化学气相沉积技术，通过改变射频功率与沉积气压两个参数来沉积非晶硅薄膜材料，并研究了变化参数对薄膜沉积速率、晶化情况、氢含量、光电学性质以及材料表面形貌等的影响。结果表明：射频功率在较低的范围内变化时，对薄膜的沉积速度影响很大，对材料的光电特性比较敏感；沉积气压升高达到一定值后，沉积速率变化不太明显，光电影响比较缓和；在低气压、小功率条件下，薄膜中出现小晶粒生长。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周炳卿	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	45	134	6.0	8.0
2	李海泉	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	9	21	3.0	4.0
3	张丽丽	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	11	27	3.0	4.0
4	张林睿	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	16	48	4.0	5.0
5	张娜	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	15	8	2.0	2.0