沉积温度对磁控溅射制备V-Al-Si-N硬质涂层结构及性能的影响

• 作者: 岳建岭 朱萍 李淼磊 王恩青 黄峰
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 V-Al-Si-N涂层 沉积温度 生长结构 摩擦磨损
• 年，卷（期）: 2015,（8）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 1005-1010
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.08.16

摘要

采用磁控溅射工艺制备了不同沉积温度的V-Al-Si-N涂层,利用X射线衍射、扫描电镜、纳米压痕仪和摩擦磨损试验机对涂层的结构和性能进行了分析.研究结果表明:室温下制备的涂层生长缺陷较多,残余应力较大.适当提高沉积温度至300℃,涂层的晶体结晶性得到提高,柱状晶粗大贯穿整个膜厚,晶粒尺寸变大;继续提高沉积温度至500℃时,涂层呈(200)择优取向,晶粒尺寸变小,涂层致密度提高.随着沉积温度的提高,涂层的硬度略有下降,但是涂层的摩擦学性能得到大幅度提升.500℃制备涂层的硬度为29.7 GPa,磨损率达到6.1×10-17 m3/Nm,比室温制备的涂层的磨损率降低了两个数量级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄峰	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	36	194	7.0	12.0
2	岳建岭	中南大学航空航天学院	13	43	4.0	5.0
6	王恩青	中南大学航空航天学院	5	49	2.0	5.0
8	朱萍	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	4	6	2.0	2.0
11	李淼磊	中南大学航空航天学院	8	18	3.0	3.0