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摘要:
柱电极垂直穿通硅片衬底的3D探测器和传统平面硅基探测器相比,具有耐辐射性、快速响应、低耗尽电压等优势,然而其器件结构、制备工艺以及系统集成上与传统结构不同,面临众多的技术挑战。近年许多机构对3D 探测器开展了一系列的研究以简化其制备工艺实现工业化,本文系统性总结了3D 硅基探测器的器件种类及特点、标准制备工艺等关键技术方法与路线,并对相关器件的性能与关键影响因素作出了总结,最后简要指出了3D硅基探测器的技术改进方向。
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文献信息
篇名 3D硅基探测器研究现状
来源期刊 电子元件与材料 学科 物理学
关键词 探测器 3D硅基探测器 综述 辐射 单面工艺 双面工艺 影响因素
年,卷(期) 2015,(9) 所属期刊栏目 综述
研究方向 页码范围 1-6
页数 6页 分类号 O572.21+2
字数 4982字 语种 中文
DOI 10.14106/j.cnki.1001-2028.2015.09.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨君 中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室 12 88 6.0 9.0
10 殷华湘 中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室 11 23 3.0 4.0
14 李贞杰 3 3 1.0 1.0
15 贾云丛 中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心 2 6 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
探测器
3D硅基探测器
综述
辐射
单面工艺
双面工艺
影响因素
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
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电子元件与材料
月刊
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51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
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