浅谈曲面直写式光刻工艺

• 作者: 孙明睿 甄万财
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体设备 曲面 直写式 光刻
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 页码范围: 41-44
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2677字
• 语种: 中文

摘要

针对一些曲面栅网器件的加工工艺,从实验装置、光刻原理、光刻工艺及参数要求等方面进行了分析,为后续深入开展曲面直写式光刻工艺打下了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙明睿	中国电子科技集团公司第四十五研究所	4	6	1.0	2.0
2	甄万财	中国电子科技集团公司第四十五研究所	3	1	1.0	1.0