线性微波化学气相沉积制备SiNx薄膜的微结构及光学性能研究?

• 作者: 刘坤 巴德纯 张健 杜广煜 赵崇凌
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 氮化硅薄膜 线性微波化学气相沉积 折射率 沉积速度
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 397-403
• 页数: 7页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.64.06780110.7498/aps.64.067801

摘要

利用自主研发的线性微波化学气相沉积系统在不同微波功率、微波占空比、基片温度、特气比例条件下制备了SiNx薄膜.通过扫描电子显微镜、椭圆偏振仪等表征测量技术，研究了不同工艺参数对SiNx薄膜表面形貌、元素配比、折射率、沉积速度的影响，并探讨了薄膜元素配比、折射率、沉积速度间的关系.结果表明：利用线性微波沉积技术，不同工艺参数下制备的SiNx薄膜组成元素分布均匀，同时具有平整的表面状态；特气比例和微波占空比是影响薄膜折射率的最主要因素，薄膜折射率在1.92—2.33之间连续可调；微波功率、微波占空比、沉积温度、特气比例都对SiNx 薄膜沉积速度影响较大，制备的SiNx薄膜最大沉积速度为135 nm·min?1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张健	东北大学机械工程及自动化学院流体机械及工程研究所	272	3714	30.0	51.0
3	刘坤		14	93	5.0	9.0
6	赵崇凌		3	7	2.0	2.0
7	巴德纯		1	3	1.0	1.0
8	杜广煜		1	3	1.0	1.0