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摘要:
为了提高光刻机调平调焦台的重复定位精度,对其调平调焦台的精度指标分解开展研究.首先,应用几何关系,建立调平调焦总指标与逻辑轴之间的关系;再应用运动学原理,建立调平调焦台通用机构的逻辑轴和物理轴之间的运动关系;接着,应用函数误差原理,建立调平调焦台的精度指标分解模型.然后,采用压电陶瓷作为驱动、柔性簧片作为导向、压电陶瓷内置电容作为传感器搭建重复定位精度要求为100 nm的实验测试平台;最后实验测试平台测试结果显示,定位精度可达到90 nm,从而验证了该光刻机调平调焦台精度指标分解模型的正确性.
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文献信息
篇名 光刻机调平调焦台精度指标分解方法研究
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 光刻机 调平调焦台 精度指标分解 函数误差原理
年,卷(期) 2016,(1) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 15-18,23
页数 5页 分类号 TN305.7
字数 2116字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 胡松 中国科学院光电技术研究所 93 705 12.0 24.0
2 王建 中国科学院光电技术研究所 154 3577 30.0 54.0
3 杜靖 中国科学院光电技术研究所 8 15 3.0 3.0
4 周清华 中国科学院光电技术研究所 2 2 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
光刻机
调平调焦台
精度指标分解
函数误差原理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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