W掺杂VO2薄膜的椭圆偏振光谱表征

• 作者: 吴岭南 宋力昕 张云龙 曹韫真 王盼盼 章俞之
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钒薄膜 相变 椭圆偏振光谱 光学常数
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 页码范围: 464-468
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.14062/j.issn.0454-5648.2016.03.19

摘要

利用MSP-3200三靶共溅射镀膜机,射频磁控溅射在石英基底上反应溅射制备单斜相(M相)VO2薄膜及W掺杂单斜相(M相)VO2薄膜.利用WVASE32椭圆偏振仪及变温附件在350～2 500 nm波长范围内对相变前后的VO2薄膜及W掺杂VO2薄膜进行光谱测试,运用Lorentz谐振子色散模型结合有效介质近似模型对椭偏参数进行拟合.结果表明:W掺杂的VO2薄膜与纯相的VO2薄膜相比,光学常数n、k随波长的变化趋势相同,但W掺杂后的VO2薄膜的折射率n小于纯相VO2薄膜的折射率,而消光系数k值大于纯相VO2薄膜的k值.W的掺入增加了薄膜的致密度,同时增加了薄膜内部自由载流子的浓度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋力昕	中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种无机涂层重点实验室	51	585	15.0	22.0
2	曹韫真	中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种无机涂层重点实验室	14	85	6.0	9.0
3	张云龙	中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种无机涂层重点实验室	8	5	2.0	2.0
4	王盼盼	中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种无机涂层重点实验室	2	2	1.0	1.0
5	吴岭南	中国科学院上海硅酸盐研究所中国科学院特种无机涂层重点实验室	3	14	2.0	3.0