化学机械抛光技术军民融合发展及推广应用

• 作者: 刘雪娇 姜家宏 杨师
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光设备 抛光盘 抛光头控制
• 年，卷（期）: 2016,（11）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 17-21,28
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2873字
• 语种: 中文

摘要

介绍了化学机械抛光设备的主要技术特点及功能,技术特点包括抛光盘制造及装配、抛光头压力控制、抛光液流量控制、抛光盘温度控制及晶片蜡粘与断电保护机构等;主要功能介绍了抛光头单独控制、自适应柔性承载器、外形及内部结构特点、人性化操作界面及自动控制程序等.说明了现阶段国内化学机械抛光设备的主要发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨师	中国电子科技集团公司第四十五研究所	7	7	2.0	2.0
2	姜家宏	中国电子科技集团公司第四十五研究所	6	3	1.0	1.0
3	刘雪娇	中国电子科技集团公司第四十五研究所	1	1	1.0	1.0