光刻胶纳米结构失效现象的光学特性分析?

• 作者: 刘刚 张晓波 柏杨 熊瑛 田扬超
• 来源期刊: 新技术新工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 微纳加工 结构失效 严格耦合波分析 偏振
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 页码范围: 66-69
• 页数: 4页
• 分类号: TH74
• 字数: 241字
• 语种: 中文

摘要

具有纳米结构的光刻胶有着独特的光学特性，其纳米结构参数直接决定其光学特性。通过对光栅脊柱倾斜、粘连和倒伏堆叠这3种结构失效现象建模，利用严格耦合波理论数值，计算了各种失效结构对偏振光的反射率影响。结果表明，脊柱倾斜的纳米光栅对于偏振光反射率最小的波长发生红移；当有粘连时纳米光栅的对偏振光的敏感程度减弱，同时产生衍射级次；倒伏堆叠的纳米光栅产生较强的衍射级次。利用偏振改变与失效形式的关系可以对纳米结构的具体失效形式做出判断，这对于实现微纳结构的无损监测有一定的推动意义。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘刚	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	207	2369	24.0	40.0
2	熊瑛	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	13	48	4.0	6.0
3	田扬超	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	50	372	12.0	17.0
4	柏杨	中国科学技术大学精密机械与精密仪器系	5	77	4.0	5.0
8	张晓波	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	13	87	5.0	9.0