低温退火的X射线W/Si多层膜应力和结构性能?

• 作者: 张众 张金帅 杨洋 王占山 王风丽 蒋励 黄秋实 齐润泽
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: X射线 W/Si多层膜 退火 应力
• 年，卷（期）: 2016,（8）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、力学和热学性质
• 页码范围: 086101-1-086101-7
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.65.086101

摘要

W/Si多层膜反射镜在硬X射线天文望远镜中有重要应用。为减小其应力对反射镜面形和望远镜分辨率的影响,同时保证较高的反射率,采用150,175和200?C的低温退火工艺对采用磁控溅射镀制的W/Si周期多层膜进行后处理。利用掠入射X射线反射测试和样品表面面形测试对退火前后W/Si多层膜的应力和结构进行表征。结果表明,在150?C退火3 h后,多层膜1级峰反射率和膜层结构几乎没有发生变化,应力减少约27%；在175?C退火3 h后,多层膜膜层结构开始发生变化,应力减少约50%；在200?C退火3 h后,多层膜应力减小超过60%,但1级布拉格峰反射率相对下降17%,且膜层结构发生了较大变化。 W, Si界面层的增大和相互扩散加剧是应力和反射率下降的主要原因。