不同碳源浓度下热丝CVD金刚石薄膜的惰性示踪气体发射光谱法研究

• 作者: 代凯 吴超 易成 王传新 范咏志 许青波 马志斌
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 金刚石薄膜 光谱诊断 惰性示踪气体
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 页码范围: 25-28,33
• 页数: 5页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2656字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.1.0005

摘要

采用热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜,运用惰性示踪气体发射光谱法对等离子基团进行分析.实验所采用的惰性示踪气体为氩气.热丝CVD金刚石薄膜的表面形貌和断面形貌通过SEM进行表征,质量通过Raman光谱表征,从而对等离子体诊断结果进行验证.结果表明:保持其他工艺参数不变时,随碳源混合气体流量不断增加,电子温度总体呈下降趋势,但在50～70 cma/min出现反常的先增加后下降,在60 cm3/min附近时出现最大值,此时的带电粒子到达基片时具有最大通量和能量,与此同时,CO、C2、CH等几种含碳基团浓度在60 cm3/min处出现最低,气相沉积过程向着金刚石薄膜沉积的方向发展,生长速率达到最大,金刚石薄膜的质量却随碳源混合气体流量的增加而降低.