作者:
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
在集成电路领域,由于静电放电ESD(ElectroStatic Discharge)导致的芯片失效一直是一个相当严重的问题,随着器件特征尺寸的不断减小,迫切需要对ESD失效机理进行广泛研究。文章针对GGNMOS(Gate-Grounded NMOS)器件的ESD防护问题,从ESD电学特性及其工艺角度,分析ESD器件GGNMOS版图设计的关键要素,并进行了版图优化设计,对基于0.13um工艺的一个ESDGGNMOS版图模型给出了设计参数。
推荐文章
0.6 um工艺NMOS ESD保护电路版图优化
ESD
版图优化
DCGS
SCGS
GGNMOS
运用遗传算法的深亚微米输出缓冲器优化设计方法
集成电路
缓冲器
遗传算法
优化设计
深亚微米VLSI物理设计中天线效应的预防及修复
天线效应(PAE)
深亚微米
VLSI
物理设计
预布线
迭代
深亚微米抗辐射加固设计的SPICE仿真验证方法
环形栅
SPICE仿真
抗辐射加固
模型
版图参数网表
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 深亚微米ESD版图设计及优化研究
来源期刊 上海建桥学院学报 学科 工学
关键词 GGNMOS ESD 版图 深亚微米 优化设计
年,卷(期) 2017,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 59-62
页数 4页 分类号 TN402
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 史君 上海建桥学院机电学院 2 0 0.0 0.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2017(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
GGNMOS
ESD
版图
深亚微米
优化设计
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
上海建桥学院学报
季刊
上海市沪城环路1111号
出版文献量(篇)
443
总下载数(次)
8
论文1v1指导