磁控溅射参数对SrTiO3基片上沉积YIG薄膜微观结构和磁性能的影响

• 作者: 周剑平 张运英 杨佳 边小兵 陈晓明
• 来源期刊: 陕西师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 教育
• 关键词: 射频磁控溅射 YIG薄膜 溅射参数 表面形貌 微观结构 磁性能
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 23-29
• 页数: 7页
• 分类号: G484.1
• 字数: 4001字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15983/j.cnki.jsnu.2017.05.251

摘要

采用射频磁控溅射法在SrTiO3衬底上制备YIG薄膜,基于薄膜的成核理论研究溅射参数对薄膜结晶性、表面形貌和磁性的影响.结果表明,在其他溅射参数不变的情况下,薄膜的厚度随溅射时间成正比增长;在衬底温度为500℃、溅射气压为1 Pa时,YIG薄膜表面较致密,晶粒大小均匀;沉积薄膜的化学组分受氧分压的影响较大,与靶材成分相比有一定偏差.溅射气体为纯氩气时,YIG薄膜的化学组分与靶材化学计量比接近,制备的YIG薄膜中存在一定量的Fe2+和氧空位;当退火温度为750℃时,在氧气中热处理40 min,形成纯的YIG相,饱和磁化强度为134emu/cm3.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	边小兵	陕西师范大学物理学与信息技术学院	40	167	7.0	11.0
2	周剑平	陕西师范大学物理学与信息技术学院	24	92	5.0	9.0
3	陈晓明	陕西师范大学物理学与信息技术学院	14	36	2.0	5.0
4	张运英	陕西师范大学物理学与信息技术学院	2	2	1.0	1.0
5	杨佳	陕西师范大学物理学与信息技术学院	11	9	2.0	2.0