磁控溅射用于细微颗粒涂镀功能薄膜的新技术

• 作者: Asima Farooq David Sawtell Glen T west Marina Ratova May Azzawi Peter J Kelly
• 来源期刊: 辽宁科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 功能薄膜 磁控溅射 粒子沉积 振动
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与冶金工程
• 页码范围: 126-132
• 页数: 7页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 4024字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13988/j.ustl.2017.02.009

摘要

磁控溅射是一项成熟的技术,可用在各种基体上沉积高质量金属及陶瓷涂层.然而,此项技术一般并不适于涂镀微粒粒度为nm或μm到100μm的细微粒涂层.本文详述了一种可涂镀微粒粒径在上述范围的均匀功能薄膜的技术.在磁场下面安放的一个碗状容器内放有微粒子,容器可以振动可使粒子均匀地振出碗边沉落到真空腔,薄膜沉积工艺为反应或非反应脉冲磁控溅射.Ti,TiO2,Sn及SnO2从单磁场源沉积,而Bi/W的氧化物从双磁场源沉积.用SEM,TEM和EDX,以及其它与应用相关的技术表征所沉积的微粒,以表明此项技术的潜在功能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	Peter J Kelly	英国曼彻斯特城市大学科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
2	David Sawtell	英国曼彻斯特城市大学科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
3	Glen T west	英国曼彻斯特城市大学科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
4	May Azzawi	英国曼彻斯特城市大学科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
5	Asima Farooq	英国曼彻斯特城市大学科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
6	Marina Ratova	英国曼彻斯特城市大学科学与工程学院	1	0	0.0	0.0