真空退火对L10-CoPt薄膜结构、磁性及表面形貌的影响

• 作者: 全志勇 刘霞 宋智林 张丽
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 钴铂 退火 结构 磁性 表面形貌
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 原子分子物理交叉学科
• 页码范围: 136-141
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3149字
• 语种: 中文
• DOI: 103969/j.issn.1000-0364.2017.02.021

摘要

本文利用磁控溅射的方法制备了L10-CoPt薄膜,研究了不同退火条件对薄膜结构、磁性以及表面形貌的影响.通过优化退火温度、保温时间以及升温速率,制备出了具有大矫顽力、高矩形比、粗糙度小的垂直各向异性L10-CoPt薄膜.实验发现,较高的退火温度有利于克服CoPt薄膜有序化转变所需要的能量,同时适当延长退火时间可以提高CoPt薄膜的扩散系数,从而促使无序相fee转化为L10有序相fct结构.此外,退火过程中减缓升温速率可以有效减小薄膜粗糙度,从而形成平整连续膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋智林	山西师范大学化学与材料科学学院磁性分子与磁信息材料教育部重点实验室	1	1	1.0	1.0
2	刘霞	山西师范大学化学与材料科学学院磁性分子与磁信息材料教育部重点实验室	3	12	1.0	3.0
3	张丽	山西师范大学化学与材料科学学院磁性分子与磁信息材料教育部重点实验室	9	13	2.0	3.0
4	全志勇	山西师范大学化学与材料科学学院磁性分子与磁信息材料教育部重点实验室	2	1	1.0	1.0