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摘要:
利用磁控溅射法制备CeO2缓冲层,通过脉冲激光沉积法制备Ba0.6Sr0.4TiO3(BST)薄膜,在A12O3(1102)蓝宝石基片上构架了Pt/BST/CeO2/A12O3和Pt/BST/A12O3叉指电容器,对比研究了CeO2缓冲层对BST薄膜结构和叉指电容器介电性能的影响.通过X射线衍射仪、原子力显微镜和LCR表分别对叉指电容器的结构、表面形貌和介电性能进行了表征.实验发现,直接沉积在蓝宝石上的BST薄膜为多晶结构,生长在CeO2缓冲层上的BST为(001)取向的高质量外延薄膜.生长在CeO2缓冲层上的BST薄膜相对于没有缓冲层的BST薄膜具有更小的晶粒和均方根粗糙度.在40 V偏置电压下,Pt/BST/A12O3和Pt/BST/CeO2/A12O3叉指电容器的调谐率分别是13.2%和25.8%;最小介电损耗为0.021和0.014.结果表明CeO2缓冲层对生长在蓝宝石基片上的BST薄膜结构和介电性能具有重要影响.
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文献信息
篇名 CeO2缓冲层对蓝宝石基Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜结构和介电性能的影响
来源期刊 电子元件与材料 学科 物理学
关键词 Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜 CeO2缓冲层 蓝宝石衬底 外延薄膜 介电性能 叉指电容器
年,卷(期) 2017,(4) 所属期刊栏目 研究与试制
研究方向 页码范围 27-31
页数 5页 分类号 O469
字数 3347字 语种 中文
DOI 10.14106/j.cnki.1001-2028.2017.04.005
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Ba0.6Sr0.4TiO3薄膜
CeO2缓冲层
蓝宝石衬底
外延薄膜
介电性能
叉指电容器
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电子元件与材料
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51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
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