O、Se和Te掺杂对单层MoS2电子能带结构和光学性质的影响

• 作者: 张耀予 林一歆 王鹤 肖岗
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 化学
• 关键词: 单层MoS2掺杂 第一性原理 能带结构 态密度 光催化潜力
• 年，卷（期）: 2017,（9）
• 页码范围: 1665-1671
• 页数: 7页
• 分类号: O641
• 字数: 3274字
• 语种: 中文

摘要

利用密度泛函理论第一性原理,计算了本征单层MoS2以及O、Se和Te掺杂单层MoS2的结构参数、能带结构、氧化还原电势、态密度、光吸收特性和光催化潜力.结果表明,本征和掺杂单层MoS2的晶胞参数、键长随原子半径的增大而增大,键角随原子半径的增大而减小.掺杂后禁带宽度变小,导电性增强.本征和掺杂的单层MoS2的导带底电位负于水解制氢反应的还原势,其价带顶电位正于水解制氢反应的氧化势,均具有光催化水解制氢的潜力.但是,本征和O掺杂,由于价带顶与导带底电位相应于水的氧化还原势和电子空穴需求量均存在不平衡,使其光解水性能不理想.然而,Se和Te掺杂可以平衡其还原与氧化能力,改善单层MoS2的光催化的性能,其中Se掺杂改善效果最为明显.同时,掺杂后的单层MoS2对可见光吸收效率增强.此研究有助于筛选合适的单层MoS2掺杂元素,提高单层MoS2材料的光催化水解制氢性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王鹤	华中科技大学能源与动力工程学院	10	55	5.0	7.0
2	张耀予	华中科技大学中欧清洁与可再生能源学院	3	5	2.0	2.0
3	肖岗	华中科技大学能源与动力工程学院	4	5	2.0	2.0
4	林一歆	华中科技大学中欧清洁与可再生能源学院	5	5	2.0	2.0